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多片平板硅外延机台均匀性提升研究-机电信息2024年13期

多片平板硅外延机台均匀性提升研究

作者:吴庆东 字体:      

摘 要:论述了多片平板硅外延机台影响外延层均匀性的因素,通过试验验证影响因素,得出了控制这些因素的方法及条件。

关键词:多片平板外延机台;炉内均匀性;旋转控制系统

中图分类号:TN305    文献标志码(试读)...

机电信息

2024年第13期